1. Otrzymywanie tellurku indu metodÄ… elektrochemicznÄ….
2. Katodowe współosadzanie miedzi z indem z roztworów azotanowych.
3. Wpływ związków kompleksowych na kinetykę katodowego współosadzania telluru z miedzią.
4. Wpływ składu elektrolitu na proces katodowego osadzania galu z roztworów kwaśnych.
1. Osadzanie stopów na osnowie niklu z platynowcami.
2. Elektrokatalitycznie aktywne stopy Co z Ru, Pd i Rh do wydzielania wodoru.
3. Wpływ pola magnetycznego na elektrokrystalizację miedzi.
4. Wpływ kierunku i zwrotu pola magnetycznego podczas elektroosadzania pierwiastków ferromagnetycznych.
5. £ugowanie szlamów anodowych z elektrorafinacji miedzi w roztworach alkalicznych.
1. Kinetyka i mechanizm reakcji chlorkowych kompleksów złota(III) z kwasem mrówkowym.
2. Kinetyka i mechanizm reakcji chlorkowych kompleksów złota(III) z kwasem malonowym.
3. Kinetyka i mechanizm reakcji chlorkowych kompleksów złota(III) z kwasem cytrynowym.
1.Elektrochemiczne otrzymywanie powłok półprzewodnikowych (CdS, ZnS, CdSe, ZnSe, CuInSe2, CuInS2).
2. Elektrochemiczne osadzanie nanometrycznych powłok półprzewodnikowych metodą ECALE (Electrochemical Atomic Layer Deposition).
3. Wpływ pola magnetyczna na proces osadzania powłok półprzewodnikowych metodą elektrochemiczną.
4. Otrzymywanie powłok tlenkowych metodą katodowej redukcji (Cu2O, ZnO).
5. Elektrochemiczna synteza chalkogenków metali przejściowych metodą ECALD (Electrochemical Atomic Layer Deposition) jako katalizatorów dla reakcji redukcji tlenu (ORR).
6. Osadzanie powłok metodą elektrochemiczną w matrycach (Al2O3, matryce poliwęglanowe, polistyrenowe).